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污染原因
半導(dǎo)體廠車(chē)間廢氣凈化吸收裝置：對(duì)于半導(dǎo)體廠***而言，在去光阻工序中常會(huì)使用的去光阻液，雖絕有些工廠車(chē)間目前都已采用冷凝吸收器進(jìn)行去光阻工序排氣前的預(yù)處理凈化并回收，回收效率約在90%以上，但對(duì)于其所衍生的低濃度(<5ppm)有機(jī)惡臭污染物，礙于既有處理等***限制，無(wú)法將所有問(wèn)題***并解決，也長(zhǎng)期造成從業(yè)者許多困擾，這些含硫化合物氣體不但是造成高科技業(yè)或相關(guān)園區(qū)廢水廠空氣污染臭味投訴的主因，同時(shí)也是使被污染的空氣導(dǎo)引進(jìn)入如半導(dǎo)體晶圓制造廠及TFT-LCD。


 

建議技術(shù)
本案建議采用uv光解除臭設(shè)備，其系利用高能高臭氧UV紫外線光束照射，裂解惡臭氣體，以去除及凈化臭味物質(zhì)。該設(shè)備購(gòu)置運(yùn)行成本低，適應(yīng)性強(qiáng)，效率高，尤其適用于半導(dǎo)體廠、塑料廠、煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等排放臭味氣體的處理，可以**解決吸附技術(shù)無(wú)法解決的臭味問(wèn)題。

現(xiàn)有問(wèn)題
因所處理的廢水含高科技業(yè)去光阻機(jī)臺(tái)的DMSO廢水，因此于廢水處理過(guò)程DMSO還原而產(chǎn)生DMS等還原性臭味，以DMS而言，其嗅覺(jué)閾值很低(<0.011-0.063ppmv)，大氣中只要含微量(低濃度)，就會(huì)產(chǎn)生明顯的惡臭氣味，若以現(xiàn)有冷凝吸收設(shè)備，無(wú)法**解決所衍生的臭味問(wèn)題，車(chē)間無(wú)法**解決廢水廠有機(jī)廢氣臭味的問(wèn)題。