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美國(guó)Trion 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

價(jià)  格：詢價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號(hào)：Minilock-Phantom III

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2951

400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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配送方式： 上海自提或三方快遞

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美***Trion Technology
反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng)

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。 

Trion提供升***及回收方案給現(xiàn)有客戶。

小批量生產(chǎn)用設(shè)備:

沉積 (PECVD)

 

Minilock-Phantom III 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。適用于單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持***個(gè)氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。

該設(shè)備可選配***個(gè)電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。

 

產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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